沈扬

沈 扬 

副研究员

联系电话：021-65643193

办公室：杏悦代理注册3-221

电子邮箱：shenyang@fudan.edu.cn

教育和工作经历：

2016-至今：杏悦注册，杏悦代理注册，副研究员，硕士生导师

2011-2015：杏悦注册，杏悦代理注册，助理研究员

2006-2011年：杏悦注册，杏悦代理注册，博士

2002-2006年：杏悦注册，信息学院，光科学与工程系，学士

先后在哈佛-史密松森天体物理天文台、加州大学洛杉矶分校作访问学者

长期主讲及参与《信号处理与总线》、《核相关基础实验》、《核电子学》等本科生及研究生专业课程，主持《信号处理与总线》在线课程建设项目。

长期从事单光子量热能谱仪研制及相关实验工作、基于EBIT装置的高电荷态离子光谱学研究。

学术论文发表情况（摘选）：

1.The status of the micro-calorimeter at Shanghai EBIT
Shen, Y.(#); Xiao, J.(*); Yao, K.; Yang, Y.; Lu, D.; Fu, Y. Q.; Tu, B. S.; Hutton, R.; Zou, Y. M.
 NUCLEAR INSTRUMENTS&METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, 2017 , 408: 326~328 ; SCIE, ISTP

2.The status of the micro-calorimeter at the Shanghai EBIT
Shen, Yang; Silver, Eric; Hutton, Roger; Zou, Yaming
 PHYSICA SCRIPTA, 2011.6, T144 ; SCIE

3.Upgrade of the electron beam ion trap in Shanghai
 Lu, D.(*); Yang, Y.; Xiao, J.; Shen, Y.; Fu, Y.; Wei, B.; Yao, K.; Hutton, R.; Zou, Y.
 Review of Scientific Instruments, 2014.9, 85(9) ; SCIE

4.A very low energy compact electron beam ion trap for spectroscopic research in Shanghai
 Xiao, J.; Fei, Z.; Yang, Y.; Jin, X.; Lu, D.; Shen, Y.; Liljeby, L.; Hutton, R.; Zou, Y.
 REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS, 2012.1, 83(1) ; SCIE

5.Dual Fano and Lorentzian line profile properties of autoionizing states
 Tu, B.; Xiao, J.; Yao, K.; Shen, Y.; Yang, Y.; Lu, D.; Li, W. X.; Qiu, M. L.; Wang, X.; Chen, C. Y.; Fu, Y.; Wei, B.; Zheng, C.; Huang, L. Y.; Zhang, B. H.; Tang, Y. J.; Hutton, R.; Zou, Y.
 PHYSICAL REVIEW A, 2015.6.22, 91(6) ; SCIE

6.High precision high voltage divider and its application to electron beam ion traps
 Chen, W. D.; Xiao, J.; Shen, Y.; Fu, Y. Q.; Meng, F. C.; Chen, C. Y.; Zou, Y.; Hutton, R.
 Review of Scientific Instruments, 2008.12, 79(12) ; SCIE

7.Precise studies on resonant energies of the first intershell (KLL) dielectronic recombination processes for He- up to O-like xenon
 Chen, W. D.; Xiao, J.; Shen, Y.; Fu, Y. Q.; Meng, F. C.; Chen, C. Y.; Zhang, B. H.; Tang, Y. J.; Hutton, R.; Zou, Y.
 Physics of Plasmas, 2008.8, 15(8) ; SCIE